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【MCC】研究開発

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【茨城】化合物半導体GaNウエハ加工技術開発担当者(リーダー)

「KAITEKI Vision 35」及び「新中期経営計画2029」:2024年11月に発表した三菱ケミカルグループの新経営方針です。 「統合情報Hub」:経営陣からのメッセージや特集コンテンツ、活動実績、各種開示資料などを集約したポータルページです。 「インタビュー記事一覧」:社員インタビューを中心に、三菱ケミカルで働く人々の取り組みやキャリアの歩みを紹介しています。 求人票音声ガイド:本音声ガイドでは、当ポジションの魅力や、グローバル環境で求められるミッションについて、要点を押さえながら分かりやすくご紹介します。
求人カテゴリー
【MCC】研究開発
職務内容
【職務概要】
本ポジションは次世代パワー半導体である化合物半導体GaNの加工技術開発・確立をご担当いただきます。
現在、設置されている装置を最適化させて歩留まり改善を行っていくだけでなく。
社外の新技術導入も含め製造装置を導入し、生産技術向上を目指していただきます。
具体的には、以下業務項目を担当いただきます。

<担当業務項目>
化合物半導体GaNのウエハ加工技術の開発業務を中心に、
ご経験やご希望などを踏まえて以下に例示する担当業務をご提案いたします。

◇要素プロセスの開発・条件最適化
 :研磨・スライシング・CMP(化学的機械的研磨)工程などにおけるGaN特有の最適条件を確立します。

◇新規プロセスフローの構築
 :デバイス設計部門と連携し、要求される特性や信頼性を満たすための新しい加工プロセスを設計します。

◇歩留まり向上・不良解析
 :試作段階や量産立ち上げ時における欠陥や特性ばらつきの発生メカニズムを解明し、プロセス改善による歩留まり向上を図ります。

◇量産化技術の確立(スケールアップ)
 :大口径ウエハ(例:6インチから8インチへの移行)に伴い量産ラインへの安定的な移管に向けた技術開発を行います。

◇新規装置の導入・評価
 :装置メーカーと協業し、次世代デバイス製造に向けた最新の加工装置のスペック策定、デモ評価、導入決定および立ち上げを行います。

【技術的なやりがい】
GaNは、シリコンよりも硬く、SiCよりも高い破壊靭性(ヒビを入れることが出来ても、伸ばして破壊することが困難)という機械物を有する材料であり、結晶のスライス、研削、研磨といった機械加工が極めて困難な素材です。さらに、シリコン/SiCウエハよりも化学的に安定傾向であるため、表面酸化や、酸化層の除去が難しく、CMP(ウエハの表面を化学的・機械的に平坦化する工程)や洗浄も困難である、加工の視点からは非常に加工の難しい素材です。こうした加工の難しい材料であるからこそ、技術的な難易度の高さと同時に、どのように課題を解決していくかを考える面白さがあり、その成果が量産化という形で目に見えて現れていく点に、大きなやりがいを感じていただけるポジションです。

【GaN事業の魅力】
「GaN」基板の安定供給体制を構築するとともに、近年需要が増加するパワーデバイス用途に適用可能な6~8インチ基板の開発にも取り組んでいます。レーザーダイオード等のオプトエレクトロニクス用途、パワーエレクトロニクス用途、いずれも成長が続いており投資を継続しています。未来の社会を支える材料として重要な位置づけを持つ高品質な「GaN」基板の供給を通じ、燃費・発電効率向上といったエネルギーミニマム社会への貢献に携わることができます。

【配属部署の紹介】
プロジェクターやレーザーテレビに使われるレーザーダイオードに欠かせない材料である窒化ガリウム基板は、サーバーの電源やEV用のパワーデバイス、高速モバイル通信用の高周波デバイスなどに活用の場を広げつつあります。当社はパワーエレクトロニクス用の品質も満たす大口径・高品質のGaN基板を供給する世界でも数少ないプレイヤーのひとつで、GHG削減、次世代高速通信などの実現における役割に大きく期待されています。GaN結晶成長技術等の基礎的な検討から、基板製造の量産技術検討まで、多様な工程、技術を多様な技術背景を持った技術者が協力して作り上げます。

【将来的に従事する可能性のある職務内容】
会社の定める職務
応募条件
【必須条件】
・経験職種(年数)・経験内容:半導体を対象とした加工技術の検討経験あるいは半導体基板加工装置メーカーでの開発経験

【歓迎要件】
・経験業界(年数):3年以上
・経験職種(年数)・経験内容:半導体基板のスライス、ラップ、研削、研磨、レーザー加工等の技術開発経験
・経験補足:半導体基板加工装置メーカー経験者、SiC基板加工経験者歓迎
・語学力:英語
待遇
■雇用形態:
正社員(雇用契約期間の定めなし・三菱ケミカルグループ(株)のグループ各社への在籍出向あり)
雇用会社:三菱ケミカル株式会社
勤務会社:三菱ケミカル株式会社(もしくは出向先グループ会社)

■試用期間:6ヶ月

■給与・賞与:
月給:514,000~808,000円
参考年収:8,840,800~13,997,600円
残業20H/月込参考年収:9,859,600~13,997,600円
※等級・グレードによっては時間外管理監督外となるため残業代の支給はございません。

■勤務時間 8:30~17:15 休憩時間 12:00~13:00 フレックス制度 有

■時間外労働:あり

■公休日:土曜日、日曜日、国民の祝日、年末年始、その他

■休暇:年次有給休暇、特別休暇(忌引、結婚等)、積立年次有給休暇 等

■福利厚生等:通勤費補助制度、退職給付制度、独身寮、単身赴任寮、カフェテリアプラン、介護支援金、弔慰金、団体保険 等

■加入保険:健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険 等

■定年制度:65歳(60歳から変更。2022年4月度より)

■その他:社内公募制度、キャリアチャレンジ制度、勤務地継続制度、勤務地希望制度
※勤務地継続制度は管理職のみ
勤務地備考
<将来的に勤務する可能性のある場所>
会社の定める事業拠点(テレワークを行う場所を含む)

<受動禁煙防止策について>
原則、就業場所をとわず、就業時間内全面禁煙
勤務地
関東事業所 筑波地区
【福岡】半導体製造装置用部品の精密洗浄技術の開発(リーダー候補~リーダー)

「KAITEKI Vision 35」及び「新中期経営計画2029」:2024年11月に発表した三菱ケミカルグループの新経営方針です。 「統合情報Hub」:経営陣からのメッセージや特集コンテンツ、活動実績、各種開示資料などを集約したポータルページです。 「インタビュー記事一覧」:社員インタビューを中心に、三菱ケミカルで働く人々の取り組みやキャリアの歩みを紹介しています。
求人カテゴリー
【MCC】研究開発
職務内容
【職務概要】
最先端半導体製造を支える半導体製造装置用部品の精密洗浄技術開発を担っていただきます。半導体メーカーおよび半導体製造装置メーカーの高度化・多様化する要求に応えるため、洗浄処方の設計・検証から、国内外拠点への技術展開、顧客との技術折衝までを一貫して担当いただくポジションです。三菱ケミカルグループの技術基盤を活かし、最先端プロセスを支える“品質の最後の砦”となる洗浄技術をグローバルに展開していきます。

【具体的な業務内容】
以下の業務を、ご経験や専門性に応じて担当していただきます。
・半導体メーカー/半導体製造装置メーカーの要求仕様を満たす精密洗浄処方(薬液条件・プロセス条件等)の開発・評価
・開発した洗浄処方の国内・海外工場(欧米・アジア)への技術移管・立ち上げ支援
・国内外顧客との技術的なコミュニケーション(特に海外顧客とは英語での直接折衝・技術説明が必須。海外出張あり)
・グループ会社(国内、欧米、アジア)間における洗浄技術・評価技術の横断的な展開・技術サポート
・技術課題の抽出・改善提案を通じた、洗浄品質の高度化・標準化推進

【配属拠点】
本業務は、三菱ケミカルグループ会社である株式会社新菱 開発センター(福岡県北九州市)を拠点として行っていただきます。
開発センターは、半導体精密洗浄事業の管理部門・R&D機能と、国内主力工場である福岡工場が隣接する本事業の中核拠点です。※三菱ケミカル九州事業所とは別敷地(洞北町)にあり、黒崎駅・陣原駅付近から社用通勤バスが運行しています。

【この仕事の魅力・やりがい】
〇グローバルに活躍できる環境
 海外顧客・海外拠点との技術コミュニケーションを通じ、語学力・国際的な技術対応力を磨けます。
〇最先端半導体製造を根底から支える技術に携われる
 ナノレベルの清浄度が求められる世界で、製造歩留まり・品質を左右する重要工程を担います。
〇開発から量産・展開まで一貫して関われる
 処方開発にとどまらず、工場展開・運用フェーズまで見届けることができ、技術の「社会実装」を実感できます。
〇三菱ケミカルグループの技術力を背景に、腰を据えて専門性を高められる
 精密洗浄分野のスペシャリストとしてのキャリア形成が可能です。

【半導体製造装置用部品の精密洗浄とは?】
半導体製造装置は、稼働を続ける中でプロセス生成物や微細な粒子、化学物質などの汚れが部品表面に徐々に付着していきます。
これらが堆積・剝離すると、製造中のウェハを汚染し、製品不良や歩留まり低下、生産率の悪化を引き起こす原因となります。
こうしたリスクを未然に防ぐために活用されているのが、精密洗浄サービスです。精密洗浄では、部品表面に残存する微粒子や金属イオン、化学物質など、目視では確認できないレベルの汚れや残留物まで取り除くことが求められます。
洗浄条件や薬液設計を最適化することで、半導体製造プロセスに求められる極めて高い清浄度を実現します。
精密洗浄は、単なる「洗浄作業」ではなく、最先端デバイス製造を安全かつ安定的に支える基盤技術として不可欠な工程です。

【募集背景詳細】
専門性を有するGlobal人材獲得の為

【テレワークの利用頻度】
状況に応じ応相談

【将来的に従事する可能性のある職務内容】
会社の定める職務
応募条件
【必須条件】
・学歴:修士卒以上
・専攻:化学系/機械系
・経験業界(年数):半導体業界での勤務経験
・経験職種(年数)・経験内容:洗浄技術(装置部品洗浄、ウェハ―洗浄等)に関連する業務経験
・経験補足:海外(顧客、工場、子会社、グループ会社)とのビジネス経験
・語学力:ビジネスレベルの英語力(会話含む)

【歓迎要件】
・学歴:博士卒
・当該語学の実務経験:海外での駐在経験
待遇
■雇用形態:
正社員(雇用契約期間の定めなし・三菱ケミカルグループ(株)のグループ各社への在籍出向あり)
雇用会社:三菱ケミカル株式会社
勤務会社:株式会社新菱

■試用期間:6ヶ月

■給与・賞与:
月給:436,000~744,000円
参考年収:7,499,200~12,896,800円
残業20H/月込参考年収:8,363,440~12,896,800円
※等級・グレードによっては時間外管理監督外となるため残業代の支給はございません。

■勤務時間:8時30分~17時15分(7時間45分勤務)フレックス制度有

■時間外労働:あり

■公休日:土曜日、日曜日、国民の祝日、年末年始、その他

■休暇:年次有給休暇、特別休暇(忌引、結婚等)、積立年次有給休暇 等

■福利厚生等:通勤費補助制度、退職給付制度、独身寮、単身赴任寮、カフェテリアプラン、介護支援金、弔慰金、団体保険 等

■加入保険:健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険 等

■定年制度:65歳(60歳から変更。2022年4月度より)

■その他:社内公募制度、キャリアチャレンジ制度、勤務地継続制度、勤務地希望制度
※勤務地継続制度は管理職のみ
勤務地備考
<将来的に勤務する可能性のある場所>
会社の定める事業拠点(テレワークを行う場所を含む)

<受動禁煙防止策について>
原則、就業場所をとわず、就業時間内全面禁煙
勤務地
株式会社新菱 開発センター